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電子線マイクロアナライザー(EPMA)

型式

  日本電子  JXA-8530F

仕様

  • 加速電圧:1~30kV
  • 分解能:3nm
  • 走査倍率:×40~×300000
  • 分析元素:B~U
  • PCD(カソードルミネッセンス)装備

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点1階

X線光電子分光分析装置(XPS)

用途

定性、定量、、深さ方向分析、化学結合分析

型式

アルバックファイ  PHIQuanteraSXM

仕様

  • 検出元素:Li~
  • 検出下限:0.5-0.01atomic%
  • 分析深さ:0.5~7.5nm
  • 最小ビーム径:9μm
  • 帯電中和機能付属
  • 角度分解測定可能

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点1階

高分解能核磁気共鳴装置(NMR)

用途

有機化合物の構造決定、定量

型式

  日本電子  FT-NMR JNM-A500(500MHz)

仕様

  • 測定可能核種:1H、13C(液体試料)

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点1階

高分解能核磁気共鳴装置(NMR)

用途

有機化合物の構造決定、定量

型式

  日本電子  FT-NMR ECX-400(400MHz)

仕様

  • 測定可能核種:1H、13C、31Pなど(液体試料)

設置場所

オープンイノベーション施設1階

X線光電子分光分析装置(ESCA)

用途

固体表面分析、化学結合の測定

型式

島津製作所  ESCA-3400

仕様

  • Arエッチング機構付属

設置場所

オープンイノベーション施設3階

試料水平型多目的X線回折測定装置

用途

薬品、セラミックス、触媒などの品質管理から、有機薄膜、磁性材料、半導体薄膜の表面分析など。物質の同定、精密な定量など。

型式

リガク  RINT-Ultima Ⅳ

仕様

  • X線発生部(3kW)
  • クロスビームオプティクス(集中法/多層膜ミラー平行ビーム光学系)
  • 新型微小部光学系装備
  • 新型高速X線検出器D/teX Ultra
  • 高精度試料水平型ゴニオメーター
  • 長尺スリット
  • カウンターモノクロメーター
  • 解析ソフトウェア(回折パターン総合解析、JADE定性、定量用)
  • 安全装置(インターロック方式緊急停止装置)

設置場所

オープンイノベーション施設1階

熱分析システム

用途

熱による物理的・化学的性質の測定

型式

  日立ハイテクサイエンス  EXSTAR6000型

仕様

■熱重量・示差熱分析装置(TG/DTA6200)
  • 温度範囲:室温~1500℃
  • 感度:0.2μg
■示差走査熱量計(DSC6100)
  • 温度範囲:-150~500℃
  • 感度:0.2μW

設置場所

オープンイノベーション施設3階

蛍光X線分析装置(XRF)

用途

固体試料の定性分析・定量分析

型式

  リガク  Supermini200

仕様

  • 波長分散小型蛍光X線分析(WDXRF)
  • X線管:Pd(200W)
  • 検出器:SC&F-PC
  • 検出元素:F~U
  • 錠剤成形:油圧式錠剤成型圧縮機

設置場所

オープンイノベーション施設1階

X線回折装置(XRD)

型式

  スペクトリス  Empryean

特徴

  • 粉末、薄膜、固体物質の測定が可能
  • 3軸測定が可能
  • 半導体検出器による高速データ収集
  • アクセス可動角度範囲:0.08~78°2θ

設置場所

第1合同棟1階

紫外可視分光光度計(UV-vis)

用途

物質の定量、吸光度、透過率、反射率測定等

型式

  島津製作所  UV-2550

仕様

  • 測定法:透過法(液体、フィルム)、反射法

設置場所

分子素材工学科棟(高分子設計化学研究室)

クロスセクションポリッシャー(CP)

型式

  日本電子  CP10901

仕様

  • イオン加速電圧:2~6kV
  • イオンビーム径:500μm
  • 試料加工スイング角:±30°
  • 使用ガス:Ar

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点1階

透過型電子顕微鏡(TEM)

型式

  日立  H500

仕様

  • 加速電圧:10~125kV
  • 倍率:×100~×800000
  • 分解能:3Å

設置場所

機械工学科棟1階

走査型電子顕微鏡(SEM)

型式

  日立  S-2300

仕様

  • 加速電圧:0.5~25kV
  • 倍率:×20~×200000
  • 分解能:4.5nm

設置場所

機械工学科棟1階

カーボン蒸着装置

型式

  日本電子  JFE-420

仕様

  • 到達圧力:3×10-4Pa
  • ベルジャ:H250×φ250
  • 蒸着用電極:2極
  • ヒーター用電源:AC10V 50A

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点1階

Ptコーター

型式

  日本電子  JFC-1600

仕様

  • スパッタリング方式:マグネトロン形
  • 使用圧力:20Pa
  • ターゲット:白金(Pt)
  • 真空チャンバー:H100×φ120
  • 所要電源:単相100V 800VA

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点1階

イオンクリーナー

型式

  日本電子  JIC-410

仕様

  • 放電方式:水平電極形
  • 使用圧力:35~40Pa
  • ターゲット:カーボン
  • 真空チャンバー:H40×φ120

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点1階

空圧/油圧式自動埋込機

型式

  BUEHLER  SIMPLIMET3

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点1階

琢磨機・試料回転機機

型式

  STRUERS  Pedemin

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点1階

自動精密切断機

型式

  BLEHLER  ISOMET

設置場所

地域イノベーション研究開発拠点1階