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管理装置紹介
電子線マイクロアナライザー(EPMA)
型式
日本電子 JXA-8530F
仕様
- 加速電圧:1~30kV
- 分解能:3nm
- 走査倍率:×40~×300000
- 分析元素:B~U
- PCD(カソードルミネッセンス)装備
設置場所
地域イノベーション研究開発拠点1階
X線光電子分光分析装置(XPS)
用途
定性、定量、、深さ方向分析、化学結合分析
型式
アルバックファイ PHIQuanteraSXM
仕様
- 検出元素:Li~
- 検出下限:0.5-0.01atomic%
- 分析深さ:0.5~7.5nm
- 最小ビーム径:9μm
- 帯電中和機能付属
- 角度分解測定可能
設置場所
地域イノベーション研究開発拠点1階
高分解能核磁気共鳴装置(NMR)
用途
有機化合物の構造決定、定量
型式
日本電子 FT-NMR ECZ500R(500MHz)
仕様
- 測定可能核種:1H、13C、19F、15N、31P等(液体試料)
設置場所
オープンイノベーション施設1階
高分解能核磁気共鳴装置(NMR)
用途
有機化合物の構造決定、定量
型式
日本電子 FT-NMR ECX-400(400MHz)
仕様
- 測定可能核種:1H、13C、31Pなど(液体試料)
設置場所
オープンイノベーション施設1階
X線光電子分光分析装置(ESCA)
用途
固体表面分析、化学結合の測定
型式
島津製作所 ESCA-3400
仕様
- Arエッチング機構付属
設置場所
オープンイノベーション施設3階
試料水平型多目的X線回折測定装置
用途
薬品、セラミックス、触媒などの品質管理から、有機薄膜、磁性材料、半導体薄膜の表面分析など。物質の同定、精密な定量など。
型式
リガク RINT-Ultima Ⅳ
仕様
- X線発生部(3kW)
- クロスビームオプティクス(集中法/多層膜ミラー平行ビーム光学系)
- 新型微小部光学系装備
- 新型高速X線検出器D/teX Ultra
- 高精度試料水平型ゴニオメーター
- 長尺スリット
- カウンターモノクロメーター
- 解析ソフトウェア(回折パターン総合解析、JADE定性、定量用)
- 安全装置(インターロック方式緊急停止装置)
設置場所
オープンイノベーション施設1階
X線界面構造解析装置
用途
高分子薄膜、有機薄膜、半導体薄膜、金属薄膜の構造評価(膜密度、膜厚、表面粗さ)
型式
リガク SmartLab-nm
仕様
- X線封入管(通常40kV×30mAで運転)
- CuKα線(波長0.1541nm)
- シンチレーションカウンタ
- 鏡面反射モード(反射角 2θ:≤10 deg、反射率 R:>10-6)
- 中分解能、高分解能(Ge(220)2結晶)モードの選択
- 試料自動アライメント機能
- 解析ソフトウェア(GlobalFit)
- 非鏡面反射モード
設置場所
オープンイノベーション施設1階
熱分析システム
用途
熱による物理的・化学的性質の測定
型式
日立ハイテクサイエンス EXSTAR6000型
仕様
■熱重量・示差熱分析装置(TG/DTA6200)- 温度範囲:室温~1500℃
- 感度:0.2μg
- 温度範囲:-150~500℃
- 感度:0.2μW
設置場所
オープンイノベーション施設3階
蛍光X線分析装置(XRF)
用途
固体試料の定性分析・定量分析
型式
リガク Supermini200
仕様
- 波長分散小型蛍光X線分析(WDXRF)
- X線管:Pd(200W)
- 検出器:SC&F-PC
- 検出元素:F~U
- 錠剤成形:油圧式錠剤成型圧縮機
設置場所
オープンイノベーション施設1階
X線回折装置(XRD)
型式
スペクトリス Empryean
特徴
- 粉末、薄膜、固体物質の測定が可能
- 3軸測定が可能
- 半導体検出器による高速データ収集
- アクセス可動角度範囲:0.08~78°2θ
設置場所
第1合同棟1階
紫外可視分光光度計(UV-vis)
用途
物質の定量、吸光度、透過率、反射率測定等
型式
島津製作所 UV-2550
仕様
- 測定法:透過法(液体、フィルム)、反射法
設置場所
分子素材工学科棟(高分子設計化学研究室)
クロスセクションポリッシャー(CP)
型式
日本電子 CP10901
仕様
- イオン加速電圧:2~6kV
- イオンビーム径:500μm
- 試料加工スイング角:±30°
- 使用ガス:Ar
設置場所
地域イノベーション研究開発拠点1階
透過型電子顕微鏡(TEM)
型式
日立 H500
仕様
- 加速電圧:10~125kV
- 倍率:×100~×800000
- 分解能:3A
設置場所
機械工学科棟1階
走査型電子顕微鏡(SEM)
型式
日立 S-2300
仕様
- 加速電圧:0.5~25kV
- 倍率:×20~×200000
- 分解能:4.5nm
設置場所
機械工学科棟1階
カーボン蒸着装置
型式
日本電子 JFE-420
仕様
- 到達圧力:3×10-4Pa
- ベルジャ:H250×φ250
- 蒸着用電極:2極
- ヒーター用電源:AC10V 50A
設置場所
地域イノベーション研究開発拠点1階
Ptコーター
型式
日本電子 JFC-1600
仕様
- スパッタリング方式:マグネトロン形
- 使用圧力:20Pa
- ターゲット:白金(Pt)
- 真空チャンバー:H100×φ120
- 所要電源:単相100V 800VA
設置場所
地域イノベーション研究開発拠点1階
イオンクリーナー
型式
日本電子 JIC-410
仕様
- 放電方式:水平電極形
- 使用圧力:35~40Pa
- ターゲット:カーボン
- 真空チャンバー:H40×φ120
設置場所
地域イノベーション研究開発拠点1階
空圧/油圧式自動埋込機
型式
BUEHLER SIMPLIMET3
設置場所
地域イノベーション研究開発拠点1階
琢磨機・試料回転機機
型式
STRUERS Pedemin
設置場所
地域イノベーション研究開発拠点1階
自動精密切断機
型式
BLEHLER ISOMET
設置場所
地域イノベーション研究開発拠点1階